溅射器 ENTRON N300

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产品型号：ENTRON N300

品牌：ULVAC

公司名称：上海岩濑国际贸易有限公司

所在地：上海松江

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产品简介

ULVAC_间歇式溅射器_ENTRON N300

产品详细信息

ULVAC_间歇式溅射器_ENTRON N300

多商会型装置ENTRONTM N 300，适当的投资效率实现正合适的装置。PVD、CVD，不仅NVM用蚀刻也装载可能。ENTRON系列，*上位机种EX 2和在场的阵容扩张，根据客户的多样化需求准确，满足了。

在*小的模块构成可能会
PVD与CVD，ALD及NVM用腐蚀等*新技术也可搭载
Cu电路和障壁金属，UBM TSV CMOS图像传感器，，，NVM用腐蚀等丰富多彩的应用对应
以单一核心集群思想为六室的过程模块搭载可能
对环境的关怀
各种节能功能标准搭载，以前比以前增加40%的节能。
次世代半导体Fab适合的控制系统
薄膜控制性出色，EES对应也可能。***Fab自动化适合

*先进的半导体内存（DRAM，Flash内存）
*先进半导体逻辑
下一代不挥发性内存（膜、蚀刻）
UBM，TSV，动力设备
CMOS图像传感器

		ENTRON N300
装置構成	搬送室	大気ウエハ移載機＋8角形真空搬送室
	モジュール	L/UL室2+*大5プロセス室+1デガスor冷却室
基板寸法		Φ300㎜　or　Φ200㎜
搬送ロボット		デュアルアーム高真空搬送ロボット＜ELEC-RZ＞
制御系		FA-PC制御（Cluser Tool controller）
排気系	主排気	LL室：専用ドライポンプ搬送室：クライオポンプ or TMP+トラップ or ドライポンププロセス室：クライオポンプ　or TMP(+トラップ)
	粗引き	粗引き用ドライポンプ、TMPフォア用ドライポンプ
対応プロセス	スパッタ	スパッタダウン方式／回転磁石カソード：コンベンショナル、LTS、SIS、HiCIS、マルチカソード
	プリクリーン	ICPプリエッチング、水素アニール、CDT
	CVD/ALD	FEOL、BEOL、NVM用CVD、CDT
	NVM用エッチング	NVM用高温、常温エッチング、ポストトリートメント
搭載可能プロセスガス系統		PVD：大4系統、CVD:大14系統、Etcher：*大11系統
スループット		メカニカルスループット：80wph(2回搬送)
到達圧力	Load lock	10Pa以下
	Transfer	PVD：1.0×10E-4Pa以下／ETCHER：10Pa以下
	Module	PVD：3.0×10E-6Pa以下／ETCHER：6.7E-4Pa以下
膜厚/エッチング分布*1		Φ300㎜基板内　±5％以内
プロセス温度		R.T～450℃
電気		50Hz/60Hz、3Φ、200V
冷却水		0.3～0.5MPa、温度20～25℃、チラー用：120L/min He Compressor用：15L/min DRP用：3L/min×ｎ台分
所要ガス		プロセス用Gas各種：0.1～0.3MPa ベント用 N₂：0.2～0.7MPa ドライポンプ用 N₂：0.2～0.7MPa
圧空		0.5～0.7MPa
省エネルギー機能		標準搭載
接地工事		A種
オプション		LTS/SIS/マルチカソード/CVD/ALD/NVM：エッチャーモジュール選択搭載可能 RGA：Qulee EES：EDPMS(Equipment Engineering Systtem）