真空泵 GCD-201X

真空泵，GCD-201X，日本爱发科的产品介绍：

真空泵的特長：

●接ガス部面に表面処理を施したケミカル型の真空ポンプです。
●化学工業、半導体業界などで使用する特殊なガス、溶剤を扱う真空引きに*適な、耐久性を増したポンプです。

●サーマルプロテクタ付
●ケミカルタイプ
●異電圧対応可(お問い合せください)
●排気速度(L/min)50/60Hz:200/240
●到達圧力(Pa):0.67
●吸気口径(mm):KF-25
●電源(V):三相200
●寸法(mm):170.0×509.5×241.1
●騒音値(dB):-
●質量(kg):26.6

●濃縮機などの化学機器。
●半導体製造装置。
●製薬機械。
●薬品処理後の乾燥。

使用条件：

●使用雰囲気温度範囲:7℃〜40℃

注意事項：

●真空ポンプ油は合成油(SO-M)をご使用ください。
●特殊ガス、溶液などを吸引されるときは事前にご相談ください。
●大気圧近くでの連続運転には不適当です。
●腐食性ガスを吸引される場合のオプショナルパーツの選定は材質と耐食性をご確認ください。

生産国：日本